高纯氨是电子工业中氮化膜的成膜气体,已经在半导体,液晶面板,氮化镓系LED生产中得到广泛应用;在多晶硅太阳能电池领域的高纯氨的应用也在不断增加。针对NH3中的水份脱除工艺研究，对于气态氨在脱水过程中出现的各种复杂问题解决，确保设备长期稳定运行，纯氨含水量小于1PPm以下。 
关键词：高纯氨；脱水；问题解决; 稳定运行; 
氨气在常温常压下为具有特殊刺激性恶臭的无色有毒气体，比空气轻。氨在常温下稳定，但是在高温分解成氢和氮。一般在一个大气压下450~500℃时容易分解成氢氮混合气。在空气中可燃，但一般难以着火，如果连续接触火源就燃烧，有时也能引起爆炸。氨呈碱性，具有强腐蚀性。氨气用途广泛包括氮肥、铵盐硝酸、尿素丙烯酰胺、氢氰酸、无机试剂、药品、染料、金属表面氮化、制冷剂、半导体用气体、氧化、氮化膜、化学气相淀积、标准气等。 
目前工业制取液氨的方式主要是利用氢和氮在高温高压时在催化剂的作用下合成得到的。其粗气中的组成杂质主要含有微量硫、水份、一氧化碳、氮气、氧气、铁杂质及其它机械杂质和油等杂质。液氨中含有硫可通过脱硫装置脱除，含有的油份可通过活性碳吸附，含有的机械杂质可通过精密过滤装置过滤，氨中含有的杂质气体可以通过萃取精馏工艺解决。氨中的水份在氨气的杂质中占有的比重较大，在实际应用解决过程中遇到的问题也较多，特别是氨气最终的脱水深度及脱水过程中产品气露点稳定性是整个工艺脱水过程中克服的难点。随着电子工业的发展，对NH3纯度要求及杂质含量要求极高。鉴于高纯氨气良好的应用前景，进一步开展NH3纯度的技术研究，提高产品气的纯度是十分必要的。